国产光刻胶通过量产验证，武汉太紫微公司 T150 A 分辨率达 120nm

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10 月 15 日消息，据武汉东湖新技术开发区管理委员会（中国光谷）今日消息，光谷企业在半导体专用光刻胶领域实现重大突破：

武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）推出的 T150 A 光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。

中国光谷官方介绍称：“该产品对标国际头部企业主流 KrF 光刻胶系列。相较于被业内称之为‘妖胶’的国外同系列产品 UV1610，T150 A 在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到 120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后道刻蚀工艺表现更为友好，通过验证发现 T150 A 中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异。”

查询公开资料获悉，太紫微公司成立于 2024 年 5 月，由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。

太紫微公司企业负责人、英国皇家化学会会员、华中科技大学教授朱明强表示：“以原材料的开发为起点，最终获得具有自主知识产权的配方技术，这只是个开始，我们团队还会发展一系列应用于不同场景下的 KrF 与 ArF 光刻胶，为国内相关产业带来更多惊喜。”